隨著台積電、英特爾、三星等半導體大廠將在明年微縮製程進入20奈米以下世代，
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，設備廠也展開新一波的搶單計畫。
在應用材料於其SEMVision系列設備上引進首創缺陷檢測掃瞄電子顯微鏡（DR SEM）技術後，
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，另一設備大廠科磊（KLA Tencor）昨（21）日宣布，
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，同步推出新一化光學及電子束晶圓缺陷檢測系統。隨著兩大設備廠已搶進台積電及英特爾供應鏈，
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，對於國內設備廠漢微科來說競爭壓力大增。
雖然半導體市場下半年景氣能見度不高，
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，但是包括台積電、英特爾、三星、格羅方德（GlobalFoundries）、聯電等大廠，
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，仍積極投入擴充新產能，
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，尤其是明年將相繼跨入20奈米，
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，後年則會進入16奈米或14奈米鰭式場效電晶體（FinFET）世代，也因此，國內外設備大廠已積極布局爭取商機。
在晶圓缺陷檢測設備市場上，國內設備廠漢微科靠著電子束檢測設備打響名號，現在已經打入台積電、三星、英特爾等大廠供應鏈。由於缺陷檢測攸關製程良率的提升速度，國際大廠如應用材料、科磊等，也已在光學及電子束檢測設備市場推出新一代產品，同樣也獲得台積電、英特爾等大廠青睞及採用。
應用材料已在其SEMVision系列設備上，推出一套最新缺陷檢測及分類技術，該設備的缺陷分析系統結合前所未有高解析度、多維影像分析功能，及革命性創新的Purity自動化缺陷分類（ADC）系統高智能的機器學習演算法，同時為半導體產業引進首創缺陷檢測掃瞄電子顯微鏡技術，並可支援到10奈米製程。
科磊昨日在科技論壇中宣布推出採用NanoPoint技術的光學晶圓缺陷檢測平台及新型eDR-7100電子束晶圓缺陷檢查系統。科磊兩此大平台可以相互支援，可以迅速發現和可靠識別影響良率的缺陷，透過缺陷偵測並成像位於3D或垂直結構如FinFET底部的獨特缺陷，在最短時間內拉高製程良率。
法人表示，雖然漢微科在各大半導體廠的電子束缺陷檢測設備市場占有率仍高，但應用材料及科磊大動作進行卡位，尤其在現有光學缺陷檢測設備平台上增加支援，降低晶圓廠成本，的確會對漢微科造成競爭壓力。，